专利摘要显现，本发明公开了一种与轨道相关联的抛光机打磨头压力操控办法及体系，该办法不会大幅度提高数控体系软件负载，而且不需要凭借其他贵重的设备。仅需依据加工轨道G代码和要害点压力值，在数控体系内部主动进行压力与轨道相关联的规划，再经过压力传感器构成闭环的压力PID操控，完成压力与轨道相关联的连续性改变。该办法和体系到达了精准、安稳牢靠的作用，且便利调试和优化，具有使用场景规模广、低成本、调试简略等优势。
华中数控请求抛光机打磨头压力操控专利到达精准安稳牢靠的作用
专利摘要显现，本发明公开了一种与轨道相关联的抛光机打磨头压力操控办法及体系，该办法不会大幅度提高数控体系软件负载，而且不需要凭借其他贵重的设备。仅需依据加工轨道G代码和要害点压力值，在数控体系内部主动进行压力与轨道相关联的规划，再经过压力传感器构成闭环的压力PID操控，完成压力与轨道相关联的连续性改变。该办法和体系到达了精准、安稳牢靠的作用，且便利调试和优化，具有使用场景规模广、低成本、调试简略等优势。
